Densidad de portadores de carga

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La densidad de portadores de carga, también conocida como concentración de portadores, denota la cantidad de portadores de carga por volumen. En unidades del SI, se mide en m−3. Como ocurre con cualquier densidad, en principio puede depender de la posición. Sin embargo, normalmente la concentración de portadores se da como un solo número y representa la densidad de portadores promedio sobre todo el material.

Las densidades de portadores de carga involucran ecuaciones relacionadas con la conductividad eléctrica, fenómenos relacionados como la conductividad térmica y enlaces químicos como el enlace covalente.

Cálculo

La densidad de portadores se obtiene generalmente de forma teórica integrando la densidad de estados en el rango de energía de los portadores de carga en el material (por ejemplo, integrando en la banda de conducción para los electrones, integrando en la banda de valencia para los huecos).

Si se conoce el número total de portadores de carga, la densidad de portador se puede encontrar simplemente dividiendo por el volumen. Para mostrar esto matemáticamente, la densidad del portador de carga es una densidad de partículas, así que integrándola sobre un volumen da el número de portadores de carga en ese volumen Donde es la densidad de carga dependiente de la posición.

Si la densidad no depende de la posición y es igual a una constante esta ecuación simplifica

Semiconductors

La densidad del portador es importante para los semiconductores, donde es una cantidad importante para el proceso de dopaje químico. Usando la teoría de bandas, la densidad de electrones, es el número de electrones por volumen de unidad en la banda de conducción. Para agujeros, es el número de agujeros por volumen de unidad en la banda de valence. Para calcular este número de electrones, empezamos con la idea de que la densidad total de electrones de banda de conducción, , es sólo agregar la densidad de electrones de conducción a través de las diferentes energías de la banda, desde el fondo de la banda a la parte superior de la banda .

Debido a que los electrones son fermions, la densidad de electrones de conducción en cualquier energía particular, es el producto de la densidad de estados, o cuántos estados conductores son posibles, con la distribución Fermi-Dirac, que nos dice la porción de aquellos estados que realmente tendrán electrones en ellos

Para simplificar el cálculo, en lugar de tratar los electrones como fermions, según la distribución Fermi-Dirac, los tratamos como un gas clásico no interaccionante, que es dado por la distribución Maxwell-Boltzmann. Esta aproximación tiene efectos insignificantes cuando la magnitud , que es cierto para semiconductores cerca de la temperatura ambiente. Esta aproximación es inválida a temperaturas muy bajas o una banda extremadamente pequeña.

La densidad tridimensional de los estados es:

Después de combinarlas y simplificarlas, estas expresiones dan como resultado:

Aquí. es la masa efectiva de los electrones en ese semiconductor particular, y la cantidad es la diferencia de energía entre la banda de conducción y el nivel de Fermi, que es la mitad de la brecha de banda, :

Una expresión similar puede derivarse para agujeros. La concentración de portador se puede calcular mediante el tratamiento de electrones que se mueven de ida y vuelta a través del bandgap como el equilibrio de una reacción reversible de la química, dando lugar a una ley de acción masiva electrónica. La ley de acción masiva define una cantidad llamó la concentración intrínseca del portador, que para materiales deshacerse:

La siguiente tabla muestra algunos valores de la concentración de portadores intrínsecos para semiconductores intrínsecos, en orden creciente de brecha de banda.

Material Densidad del transportador (1/cm3) a 300K
Germanium 2.33×1013
Silicon 9.65×109
Gallium Arsenide 2.1×106
3C-SiC 10
6H-SiC 2.3×10−6
4H-SiC 8.2×10−9
Nitruro de calcio 1.9×10−10
Diamante 1.6×10−27

Estas concentraciones de portadores cambiarán si estos materiales están dopados. Por ejemplo, dopar silicio puro con una pequeña cantidad de fósforo aumentará la densidad de portadores de electrones, n. Entonces, como n > p, el silicio dopado será un semiconductor extrínseco de tipo n. Dopar silicio puro con una pequeña cantidad de boro aumentará la densidad de portadores de huecos, por lo que p > n, y será un semiconductor extrínseco de tipo p.

Metales

La densidad de portadores también es aplicable a los metales, donde se puede estimar a partir del modelo simple de Drude. En este caso, la densidad de portadores (en este contexto, también llamada densidad de electrones libres) se puede estimar mediante:

Donde es la constante Avogadro, Z es el número de electrones valence, es la densidad del material, y es la masa atómica. Puesto que los metales pueden mostrar múltiples números de oxidación, la definición exacta de cuántos electrones de validencia un elemento debe tener en forma elemental es algo arbitrario, pero la tabla siguiente enumera las densidades de electrones libres dadas en Ashcroft y Mermin, que se calcularon utilizando la fórmula anterior basado en supuestos razonables sobre valence, , y con densidades masivas, calculado a partir de datos experimentales de cristalografía.

Material Número de electrones de valence Densidad del transportador (1/cm3) a 300K
Copper 1 8.47×1022
Plata 1 5.86×1022
Oro 1 5.90×1022
Beryllium 2 2.47×1023
Magnesio 2 8.61×1022
Calcio 2 4.61×1022
Estroncio 2 3.55×1022
Bario 2 3.15×1022
Niobio 1 5.56×1022
Iron 2 1.70×1023
Manganese 2 1.65×1023
Zinc 2 1.32×1023
Cadmio 2 9.27×1022
Aluminio 3 1.81×1023
Gallium 3 1.54×1023
Indio 3 1.15×1023
Thallium 3 1.05×1023
Tinta 4 1.48×1023
Lead 4 1.32×1023
Bismuth 5 1.41×1023
Antimonio 5 1.65×1023

Los valores de n entre los metales inferidos, por ejemplo, mediante el efecto Hall suelen ser del mismo orden de magnitud, pero este modelo simple no puede predecir la densidad de portadores con una precisión muy alta.

Medición

La densidad de portadores de carga se puede determinar en muchos casos mediante el efecto Hall, cuyo voltaje depende inversamente de la densidad de portadores.

Referencias

  1. ^ O. Madelung, U. Rössler, M. Schulz (2002). "Germanium (Ge), concentración intrínseca del portador". Elementos del Grupo IV, IV-IV y III-V. Parte b – Electrónica, Transporte, Óptica y Otras Propiedades. Landolt-Börnstein – Group III Condensed Matter. pp. 1–3. doi:10.1007/10832182_503. ISBN 978-3-540-42876-3.{{cite book}}: CS1 maint: múltiples nombres: lista de autores (link)
  2. ^ Pietro P. Altermatt, Andreas Schenk, Frank Geelhaar, Gernot Heiser (2003). "Evaluación de la densidad intrínseca de portador en silicio cristalino en vista de estrechamiento de banda-gap". Diario de Física Aplicada. 93 (3): 1598. Código:2003JAP....93.1598A. doi:10.1063/1.1529297.{{cite journal}}: CS1 maint: múltiples nombres: lista de autores (link)
  3. ^ Rössler, U. (2002). "Gallium arsenide (GaAs), concentración intrínseca de portador, conductividad eléctrica y térmica". Elementos del Grupo IV, IV-IV y III-V. Parte b – Electrónica, Transporte, Óptica y Otras Propiedades. Landolt-Börnstein – Group III Condensed Matter. pp. 1–8. doi:10.1007/10832182_196. ISBN 978-3-540-42876-3.
  4. ^ a b c d e Gachovska, Tanya K.; Hudgins, Jerry L. (2018). "SiC y GaN Power Semiconductor Dispositivos". Power Electronics Handbook. Elsevier. p. 98. doi:10.1016/b978-0-12-811407-0.00005-2. ISBN 9780128114070.
  5. ^ a b Ashcroft, Mermin. Solid State Physics. págs. 4 a 5.
  6. ^ Edwin Hall (1879). "En una nueva acción del Magneto en las corrientes eléctricas". American Journal of Mathematics. 2 (3): 287–92. doi:10.2307/2369245. JSTOR 2369245. S2CID 107500183. Archivado desde el original el 27 de julio de 2011.
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